لایه نشانی به روش cvd

لایه نشانی به روش CVD

لایه نشانی به روش Chemical Vapor Deposition) CVD) فرآیندی است که در آن ترکیبی فرار از یک ماده با گازهای دیگر به طور شیمیایی واکنش می دهد. در این فرآیند یک جامد غیر فعال بر روی زیرلایه ای، که در جای مناسبی قرار دارد، رسوب می کند.

تعداد ارائه دهندگان:

0
ارائه دهندگان
معرفی خدمت

لایه نشانی به روش Chemical Vapor Deposition) CVD) فرآیندی است که در آن ترکیبی فرار از یک ماده با گازهای دیگر به طور شیمیایی واکنش می دهد. در این فرآیند یک جامد غیر فعال بر روی زیرلایه ای، که در جای مناسبی قرار دارد، رسوب می کند.

لایه نشانی به روش CVD روشی برای ساخت طیف وسیعی از قطعات و محصولات می باشد. این روش به عنوان یک فرآیند تولید جدید در چندین بخش صنعتی شامل صنعت نیمه‌هادی، صنعت سرامیک و … مورد استفاده قرار می گیرد.

سطح مورد نظر در روش لایه نشانی به روش CVD در معرض بخار یک یا چند ماده شیمیایی قرار می گیرد. سپس به منظور ایجاد پوشش جامد با ترکیب شیمیایی مورد نظر، اتم های گازی موجود در محفظه در سطح زیرلایه تجزیه شده یا با یکدیگر واکنش شیمیایی می دهند.

مشاهده بیشتر

نظرات

دیدگاهتان را بنویسید

نشانی ایمیل شما منتشر نخواهد شد. بخش‌های موردنیاز علامت‌گذاری شده‌اند *

متنوع ترین خدمات و کالاهای صنعتی
بررسی و مقایسه ارائه دهندگان
معرفی تخصصی خدمات و کالاها
مشاوره تخصصی رایگان
ثبت نام رایگان ارائه دهندگان